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  • UPK-T24水浸式超聲C掃描系統(tǒng)

    水浸超聲C掃描系統(tǒng),是新一代數(shù)字化、模塊化、計(jì)算機(jī)插卡式的超聲探傷及A/B/C掃描成像系統(tǒng)。具有高速、高精度、高清晰圖像分辨率及大頻寬等特性。 水浸式超聲C掃描系統(tǒng) 主要用于高分子材料、飛機(jī)用纖維復(fù)合材料、構(gòu)件等的內(nèi)部分層、脫粘、夾雜、空洞、孔洞等缺陷的無(wú)損檢測(cè)和評(píng)價(jià)??捎糜趯?shí)驗(yàn)室研究,又可用于生產(chǎn)過(guò)程的質(zhì)量檢驗(yàn)及零部件探傷。

    訪問(wèn)量:1265
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    產(chǎn)地:香港特別行政區(qū)
  • UPK-T24美國(guó)中小型水浸式超聲C掃描系統(tǒng)

    名稱:美國(guó)中小型水浸式超聲C掃描系統(tǒng)$n 型號(hào):UPK-T10,UPK-T24,UPK-T36,UPK-T48,UPK-T60,UPK-T72等。$n 產(chǎn)地:美國(guó)$n 應(yīng)用:進(jìn)行高分子材料、復(fù)合材料、構(gòu)件內(nèi)部分層、脫粘、夾雜等缺陷的無(wú)損檢測(cè)和評(píng)價(jià)。

    訪問(wèn)量:2944
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    產(chǎn)地:國(guó)外
  • T156美國(guó)大型水浸超聲C掃描檢測(cè)系統(tǒng)

    名稱:美國(guó)大型水浸超聲C掃描檢測(cè)系統(tǒng)$n品牌/產(chǎn)地:美國(guó)$n型號(hào):T156,T240,T264,T480$n應(yīng)用:進(jìn)行高分子材料、復(fù)合材料、靶材、焊縫、構(gòu)件內(nèi)部分層、脫粘、夾雜等缺陷的無(wú)損檢測(cè)和評(píng)價(jià)。

    訪問(wèn)量:4931
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    產(chǎn)地:國(guó)外
  • ANA6000P-H臥式光彈系數(shù)測(cè)試儀

    臥式光彈系數(shù)測(cè)試儀(ANA6000P-H)是應(yīng)用偏振光干涉原理對(duì)應(yīng)力作用下能產(chǎn)生人工雙折射材料做成的力學(xué)構(gòu)件模型進(jìn)行實(shí)驗(yàn)應(yīng)力測(cè)試的儀器,簡(jiǎn)稱光彈儀。應(yīng)用它可以通過(guò)模型在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)進(jìn)行大型建筑構(gòu)件、水壩壩體、重型機(jī)械部件的應(yīng)力和應(yīng)力分布的測(cè)試,并可以在模型上直接看到被測(cè)件的全部應(yīng)力分布和應(yīng)力集中情況。

    訪問(wèn)量:347
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    產(chǎn)地:北京市
  • ANA6000P-V立式光彈測(cè)試儀

    立式光彈測(cè)試儀:光彈系數(shù)測(cè)試儀(ANA6000P-V)是應(yīng)用偏振光干涉原理對(duì)應(yīng)力作用下能產(chǎn)生人工雙折射材料做成的力學(xué)構(gòu)件模型進(jìn)行實(shí)驗(yàn)應(yīng)力測(cè)試的儀器,簡(jiǎn)稱光彈儀。應(yīng)用它可以測(cè)試 SiC晶圓、手機(jī)膜、顯示屏、石英玻璃等器件內(nèi)部的應(yīng)力雙折射/殘余應(yīng)力,以圖像形式直觀觀察被測(cè)件的應(yīng)力分布和應(yīng)力集中情況。

    訪問(wèn)量:626
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    產(chǎn)地:北京市
  • FF35 CT計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)

    FF35 CT 計(jì)算機(jī)斷層掃描系統(tǒng)非常適合檢查您的中小型產(chǎn)品:電子元件如SMD,導(dǎo)體封裝,材料探針(如金屬,塑料,CFRP),系統(tǒng),MEMS,MOEMS,療器械如空心,小金屬零件即注塑模具,電子設(shè)備,小鑄件。

    訪問(wèn)量:685
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    產(chǎn)地:國(guó)外
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